
Analisi rapida e accurata dei rivestimenti a nanoscala
FT160DesktopXRFAnalizzatori progettati per misurare oggiPCBpiccoli componenti sui semiconduttori e sui microconnettori. La capacità di misurare con precisione e rapidità i componenti più piccoli aiuta ad aumentare la produttività ed evita costose rielaborazioni o rotture dei componenti.
FT160I componenti ottici policapillari possono essere misurati in meno di50 μmCaratterizzato da rivestimenti a nanoscala, la tecnologia avanzata del rilevatore offre un'alta precisione, mantenendo al contempo tempi di misurazione più brevi. Altre funzionalità, come un grande banco di campionamento, una porta di campionamento ampia, una telecamera di campionamento HD e una robusta finestra di osservazione, consentono di caricare facilmente oggetti di diverse dimensioni e individuare aree di interesse su sottostrati di grandi dimensioni. L'analizzatore è facile da usare, con il vostroQA / controllo qualitàIntegrazione perfetta dei processi per avvisare prima che si verifichino crisi.
Punti salienti del prodotto
FT160Le tecnologie ottiche e dei rilevatori sono progettate appositamente per l'analisi delle micromacchie e dei rivestimenti ultrasottili, ottimizzate per le caratteristiche minime.
Grande finestra di osservazione per visualizzare le analisi da una distanza di sicurezza
Metodo di misura conformenorma ISO 3497enorma ASTM B568enorma DIN 50987standard
IPC-4552BeIPC-4553AeIPC-4554eIPC-4556Rilevamento della consistenza del rivestimento
Posizionamento automatico delle caratteristiche per la configurazione rapida dei campioni
Selezione della configurazione dell'analizzatore ottimizzata per le vostre applicazioni
in meno di50 μmCaratteristiche di misurazione del rivestimento nanoscale
Raddoppia il flusso di analisi degli strumenti tradizionali
Può ospitare campioni di grandi dimensioni in tutte le forme
Progettazione resistente per la produzione a lungo termine
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FT160 |
FT160L |
FT160S |
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Gamma di elementi |
Al-U |
Al-U |
Al-U |
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Rilevatore |
Rilevatore di deriva di silicio(SDD) |
Rilevatore di deriva di silicio(SDD) |
Rilevatore di deriva di silicio(SDD) |
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XAnodo a raggi |
Il WoppureMo |
Il WoppureMo |
Il WoppureMo |
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Apertura |
Focus multicapillare |
Focus multicapillare |
Focus multicapillare |
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Dimensioni dell' apertura |
30 μm al 90%forza (Mo canale) |
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35 μm al 90%forza (W tubo) |
30 μm al 90%forza (Mo canale) |
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35 μm al 90%forza (W tubo) |
30 μm al 90%forza (Mo canale) |
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35 μm al 90%forza (W tubo) |
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XYProcesso del campione dell'asse |
400 x 300 mm |
300 x 300 mm |
300 x 260 mm |
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Dimensioni massime del campione |
400 x 300 x 100 mm |
600 x 600 x 20 mm |
300 x 245 x 80 mm |
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Focus campione |
Laser di messa a fuoco e messa a fuoco automatica |
Laser di messa a fuoco e messa a fuoco automatica |
Laser di messa a fuoco e messa a fuoco automatica |
